Epson presente en la Semana de la Moda de Nueva York
Epson, líder en impresión e imagen digital, presentó durante la Semana de la Moda de Nueva York, el evento más prestigioso de moda a nivel mundial, “Digital Couture Project-Epson New York Fashion Week”, una iniciativa original que combina “moda” con “tecnología”.
La compañía llevó a cabo una propuesta innovadora y fashion, seleccionando a 11 diseñadores de las Américas dispuestos a incursionar en una revolución tecnológica en sus colecciones mediante el uso de la tecnología de sublimación digital para crear nuevos estilos e hitos en la moda.
El evento se llevó a cabo en “Industria Superstudios”, un mítico estudio neoyorkino que es referente de creatividad, moda y fashion trends, el cual contó con la presencia de miembros destacados de la prensa internacional, élite del mundo de la moda, farándula y socialité neoyorquino. Los asistentes fueron testigos del despliegue de las pasarelas nutridas con diseños que desafían los estándares y buscan la oportunidad de imponerse como la nueva tendencia que marcará el presente de la industria textil durante el 2015.
Los asistentes pudieron disfrutar de una velada deslumbrante, con modelos que vistieron las colecciones de diseñadores de Brasil, México, Colombia, Perú, Argentina, Chile, Costa Rica, Ecuador y los Estados Unidos. Dichas colecciones inspiradas en el futuro del fashion y la sublimación digital, fueron elaboradas con diversos materiales donde se incluyeron piezas sublimadas con las impresoras SureColor Serie F de Epson.
“La moda se construye sobre tendencias, y la tecnología, desde hace años, es una tendencia en sí misma. Los diseñadores que participaron de este ambicioso proyecto demostraron que, con la tecnología de sublimación, la versatilidad en el diseño y la calidad de los colores y detalles en las prendas están al nivel de la Alta Costura” comentó Agustín Chacón, Vicepresidente de Ventas de las Subsidiarias latinoamericanas de Epson.
Los diseñadores y/o marcas de diseño que participaron en Digital Couture Project presentando sus colecciones sublimadas en Nueva York fueron: Pilar Briceño de Colombia, Dual de Costa Rica, Ay NotDead de Argentina, Moah Saldaña de Perú, Marco Antonio Farías de Chile, María Elisa Guillén de Ecuador, Pineda Covalín de México, Mariana Morrell de Brasil, Leonor Silva representando al Caribe (Venezuela/Miami), Maggie Barry de EEUU Costa Oeste y ESOSA de EEUU Costa Este.
“La propuesta de Epson tuvo como objetivo demostrar que la sinergia entre moda y tecnología abre las puertas tanto a emprendedores como a diseñadores ya establecidos, a una nueva oportunidad creativa y funcional, con el respaldo que ofrece la calidad de sus productos. Y el resultado de este proyecto demuestra que se ha logrado”, concluyó Chacón.
